粉体技術における工業晶析国際シンポジウム
International Symposium on Industrial Crystallization Inspiring Powder Technology (ISICIPT)

晶析に関する国際的研究動向は、大きな転換期にある。1960年代に始まった核化や成長など基礎現象の解明とポピュレーションバランスモデルによる設計理論の構築といった一連の研究成果に基づいて、回分晶析による高純度化、異性体分離、多形制御といった結晶構造制御の方法を研究しようとしている。また、各国の研究者の顔ぶれもこの数年間で多数変化してきている。
本シンポジウムは、日米欧の三極から著名な技術者・研究者を招聘し、講演会、ポスターセッション、討論会を通じて、晶析技術に関する実用的な知識の共有化をはかり、将来の共同開発・研究につながることを目指している。そこで、技術交流を容易にするために、同時通訳の導入を試みている。
オーラルセッションでは、従来確立してきた設計理論とその応用事例をもとに日米の熟練研究者・技術者の講演を予定している。晶析の新たな制御法や結晶構造制御について、欧米の若手研究者の講演により明らかになるであろう。そしてそれらを総合的に体系化し、実用的な技術にするためのフレームワークを示し、今後の共同開発の可能性を示唆したい。このオーラルセッションを通して、晶析技術の実用性と将来性が、粉体技術との比較の中から明らかになり、微細構造材料の創成手法として新たな分野が開拓されていくことになるであろう。
ポスターセッションは、参加者間の技術交流を目的として、主としてパネラー、分科会幹事会社からの情報提供を行う。晶析装置設計理論の実用性を具体的に示すことによって、次世代技術のあるべき姿、開発の規模、方向性を見極めることができるだろう。セッションⅠは、軽食を用意し、参加者間の懇親を深めることも目的の一つで、セッションⅡは、POWTEX2002、粉体工学会秋期研究発表会参加者にも無料開放する。
今回の主プログラムであるパネルディスカッションでは、晶析プロセス・装置設計理論がどこまで応用され実用化されているかを主テーマとし、高純度化や多形制御のための基礎現象の解明と工業的実証に欠かすことのできない、「エンジニアリングのための知識とそのマネージメント手法」についてディスカッションする。ここでは、前例のないディスカッションが展開されることだろう。というのは、ラウンドテーブルにパネラーが着席し、相互の見解を提示し、それと同時にフロアーテーブルにいる一般参加者からの質問を受け付けるからである。これにより、初心者からエキスパートまで幅広い技術者に情報提供できると期待している。

[概要]

会 期: 2002年11月13日(水)~14日(木)
会 場: 日本コンベンションセンター[幕張メッセ] 国際会議場

主催:社団法人日本粉体工業技術協会 晶析分科会
The Association of Powder Process Industry and Engineering, Japan
Technical Panel of Crystallization

併催行事: POWTEX TOKYO 2002[国際粉体工業展]、 粉体工学会秋期研究発表会

参加費: 10,000円(一般)、 8,000円(日本粉体工業技術協会会員)
問合・申込: 詳細は事務局あて、申し込みはe-mailまたはFAXにて、 10月12日まで
事務局: (社)日本粉体工業技術協会 晶析分科会
2002粉体技術における工業晶析国際シンポジウム 事務局 佐藤・山崎
東京都江東区亀戸9-11-1 日本化学工業内
e-mail:info@crystallization.org、 ファクス:03-3636-8117

[プログラム]

オーラルセッション(11月13日) <201室> 同時通訳付13:00-17:00
座長: Paul Barret(Lasentec)、長谷川和宏(味の素株式会社)
13:00-13:15 挨 拶 国際シンポジウム開催にあたって
広島大学工学部 助教授 北村 光孝
13:15-13:45 講演1 Scale-up Method of Industrial Crystallization/Based on Design Theory in Japan;
How to Apply Q&A Database to Knowledge Management for Design?
富山大学 地域共同研究センター 教授 城石 昭弘
13:50-14:30 講演2 Crystal Size Control / The Latest Developments for a Wide Variety of Crystallizers
Messo Inc. VP Thanassi E. Fakatselis
14:35-15:15 講演3 High Purification / New Technology of Crystallization in Europe;
Prediction of Impurity Behavior and In Line Sensing for Control
Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg Prof. Joachim Ulrich
15:30-16:10 講演4 Modeling Polymorphs / New Development and Application of Simulation Technologies
Accelrys Inc Dr. Frank Leusen
16:15-16:45 講演5 Theories of Crystallization Process Design;
Practice and Future Technology for Real International Collaboration
日本化学工業株式会社 情報化推進室室長 工学博士 山崎 康夫

ポスターセッションⅠ(11月13日) <302室>17:30-19:30


ポスターセッションⅡ(11月14日) <302室>10:00-11:30


パネルディスカッション(11月14日) <201室> 同時通訳付13:00-16:00
司会: Prof. Joachim Ulrich(Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg)
山崎康夫(日本化学工業株式会社)
13:00-13:50 イントロダクション Steve Sanders(OLI Systems)、北村光孝(広島大学)、
Lewis Collins(Fluent)、長谷川正巳(塩事業センター)、
Paul Barret(Lasentec)の各氏によるプレゼンテーション
14:00-16:00 ディスカッション 欧米および日本の技術者・研究者約15名のパネラーによる
ディスカッションを中心に一般参加者からの質問(事前提出されたもの)に答えていく形式。